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原来磁场强弱虽不好进行控制，但同时工件也在同时运转，且是靶材原子多次沉积此案结束镀膜工序，在一段时间内虽然某些部位厚，某些部位薄，但另一个时间内，磁场强的作用下在原来薄的部位沉积上厚的，在厚的部位沉积上薄的，如此多次，整个膜层成膜后，均匀性还是比较不错的。

亚气的送气均匀性也会对膜层均匀性产生影响，其原理实际上和真空度差不多，因为亚气的进入，真空室内压强会产生变化，均匀的压强大小可以控制成磁控溅射真空镀膜机膜厚度的均匀性。

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光学镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。如果从光学镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能的话，这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分。

在真空条件下成膜可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入光学镀膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。